可见光衰减片应用领域：医疗设备光探测器、临床生化分析设备、化学检测设备、各种光学仪器设备、电子学显像系统、紫外测量仪器、各种激光器、光学数码照相机、摄像机、安防监控摄像机、光通讯衰减滤波器。
使用注意事项：
1.使用时请戴好手指套，不要用手指直接触碰可见光衰减片表面，以免残留的手指影响中性密度滤光片通光效果。
2.如可见光衰减片表面脏时，可用无尘沾上酒精擦拭镜片表面。不可用表面很粗糙的布或纸或沾水擦拭，否则会损坏可见光衰减片表面。
3.检查光路各调整光轴时，请一定做好相应的防护。
4.如果用了可见光衰减片后系统效果还是不好，请把详细光路系统告诉我们，我们来帮您分析原因，让您少走很多冤枉路。（当然，我们会对客户的方案保密，尽可放心！和客户一起成长是我们不变的宗旨）。
可见光衰减片的方法有很多种，包括电镀、化学镀，真空蒸发镀以及磁控 溅射镀膜法。
工业化生产中人们既关心产品的综合性能又要考虑制备成本，在 以上制备方法中化学镀膜工艺流程简单，成本低廉，且操作简便，因此受到人 们的重视，但该方法会产生废液，污染环境；磁控溅射镀膜工艺技术先进， 制备的薄膜具有质量保证，是目前广泛应用的一种制备手段，相比于其他方 法，磁控溅射镀膜具有成膜速率高，基片温度低，膜粘附性好等镀膜优点，而 且对环境无污染，适合低碳要求，是一种绿色制造技术，是最有发展前景的表 面涂覆技术之一 。
从市场需求的角度看，满足光衰减器小型集成化、系列 化的发展，但其使用设备仪器复杂，靶材尺寸固定，原材料需要加工，成本相 对较高 。
基于产品性价比的考虑，有必要对化学镀和磁控溅射镀这两种典 型镀膜方法进行综合分析和对比，进而研究工艺参数对 Ni/Si O 2 光衰减片的表 面形貌、晶体结构、三维结构、粗糙度以及对光衰减率的影响，通过调节工艺 参数来获得具有不同光衰减率的光衰减片，从而满足人们对不同膜系功能的需 求。
日夜两用滤光片
光学性能指标：T≥90% @ 420nm～630nmT ≤5% @ 680nm～800nmT≥90% @ 850+/-10nmT ≤5% @ 900nm～1100nm
紫外衰减片
我们生产的紫外衰减片主要有紫外波段：250~400nm@T=0.001%，0.01%，0.1%，1%，10%，20%，30%，40%，50%，60%，70%，80%，90%。应用领域:光学数码照相机,摄像机，各种激光器,1064nm激光器，808nm激…
525nm窄带滤光片
尺寸：1x1mm~80x80mm或φ4~79mm厚度：0.4-1.1mm中心波长：525nm峰值透射率：T>85%半带宽：20~40nm
1064nm窄带滤光片
材料：浮法玻璃或石英玻璃入射角：0°中心波长：1064nm±2(也可根据客户要求定制，目前我司可做250nm~1100nm任意波长)半高宽:10nm/15nm/20nm/30nm峰值透过率: T>85%
