深圳市赓旭光电科技有限公司

专业滤光片生产厂家

专注滤光片10年

服务热线

075528052697

平衡磁控溅射原理

深圳市赓旭光电专业滤光片生产厂家,欢迎定制采购! 

平衡磁控溅射即传统的磁控溅射,是在阴极 靶材背后放置芯部与外环磁场强度相等或相近 的永磁体或电磁线圈,在靶材表面形成与电场方 向垂直的磁场。沉积室充入一定量的工作气体, 通常为Ar,在高压作用下Ar 原了电离成为Ar+ 离子和电子,产生辉光放电,Ar+ 离子经电场加速 轰击靶材,溅射出靶材原子、离子和二次电子等。 电子在相互垂直的电磁场的作用下,以摆线方式 运动,被束缚在靶材表面,延长了其在等离子体 中的运动轨迹,增加其参与气体分子碰撞和电离 的过程,电离出更多的离子,提高了气体的离化 率,在较低的气体压力下也可维持放电,因而磁 控溅射既降低溅射过程中的气体压力,也同时提 高了溅射的效率和沉积速率。

但平衡磁控溅射也有不足之处,赓旭光电小编举例跟你详细讲解下,由于 磁场作用,辉光放电产生的电子和溅射出的二次 电子被平行磁场紧紧地约束在靶面附近,等离子 体区被强烈地束缚在靶面大约60 mm 的区域,随 着离开靶面距离的增大,等离子浓度迅速降低, 这时只能把工件安放在磁控靶表面50~100 mm 的范围内,以增强离子轰击的效果。这样短的有 效镀膜区限制了待镀工件的几何尺寸,不适于较 大的工件或装炉量,制约了磁控溅射技术的应 用。且在平衡磁控溅射时,飞出的靶材粒子能量 较低,膜基结合强度较差,低能量的沉积原子在 基体表面迁移率低,易生成多孔粗糙的柱状结构 薄膜。提高被镀工件的温度固然可以改善膜层的 结构和性能,但是在很多的情况下,工件材料本 身不能承受所需的高温。

非平衡磁控溅射的出现部分克服了以上缺 点,将阴极靶面的等离子体引到溅射靶前200~ 300 mm 的范围内,使基体沉浸在等离子体中,如 图1 所示。这样,一方面,溅射出来的原子和粒子沉积在基体表面形成薄膜,另一方面,等离子体 以一定的能量轰击基体,起到离子束辅助沉积的 作用,大大的改善了膜层的质量。

平衡磁控溅射


微信

联系地址:深圳市龙华区福城街道大富路硅谷动力第十园深圳市低碳科技示范园A8栋

总部电话:0755-28052697  传真号码:0755-28053245

手机号码:13823235913   企业邮箱:info@szgladsome.com

Copyright © 深圳市赓旭光电科技有限公司 All Rights Reserved 版权 备案号:粤ICP备14023905号-1   技术支持:迪翼网